牛津電子束鍍膜機采用電子束加熱，不用坩堝上的片作為蒸發源，可以穩定地形成多層薄膜；利用我公司*的比例控制方法和多點在線監測，可以形成高精度、穩定的光學多層膜；可以使用可操作性好的電梯來取出基板傘架。

　　電子束蒸發系統是化合物半導體器件制作中的一種重要工藝技術；它是在高真空狀態下由電子束加熱坩堝中的金屬，使其熔融后蒸發到所需基片上形成金屬膜。

　　牛津電子束鍍膜機采用均勻分布的高離子電流密度離子源，配備雙電子槍，可在多點和環形坩堝中鍍100層以上，采用自動蒸發控制系統實現全自動蒸發過程，工件架可以是鐘罩式或行星式。

　　電子束鍍膜機薄膜測試標準：

　　1.初始接觸角范圍為115°±5°；

　　2.鋼絲絨摩擦阻力測試標準：使用0000#鋼絲絨，面積10*10mm，行程40次/min，負載1Kg，往返摩擦5000次后接觸角大于100°；

　　3.皮擦測試標準：直徑6mm皮擦，行程25次/min，負載1Kg，往返摩擦2500次后接觸角大于100°；

　　備注：試樣的玻璃應是經過拋光的觸摸屏蓋板專用玻璃，表面光滑。

　　牛津電子束鍍膜機優點：

　　1.提高沉積速率以獲得更高的產量；

　　2.在半導體、光電子和光子學領域實現高精度工藝；

　　3.堅固耐用，易于維護。